コンバーティングテクノロジーセミナー2018

薄膜形成のメカニズムとプラスチック表面機能化の
最新状況

 

<開 催 日>

<大阪会場>2018年12月7日(金) 大阪科学技術センター
<東京会場>2018年12月14日(金) 加瀬の貸し会議室 入谷ホール


講師:
技術士事務所ソメイテック 所長 大薗 剣吾 氏
 

 薄膜技術は、半導体や電子部品の機能要素として、また金属やガラス、プラスチック・フィルム等の表面への機能付与の手段として、幅広い産業分野で用いられています。装置や材料の進歩によって、薄膜の機能や生産性は高まっていますが、一方で技術的にはブラックボックス化が進む方向性であるため、プロセスを扱う技術者自身には薄膜技術のより深い理解が望まれます。
 本講座では前半で薄膜形成のメカニズムを掘り下げて解説します。真空蒸着、スパッタリング、CVD、めっき、塗布法、前後処理について一つ一つ理解を深めていきます。後半ではプラスチックの表面機能化における最新の応用事例を紹介します。軽量で安価・均質であるなどの多くの利点を有するプラスチック材料の活用において、薄膜はその表面に機能を付与する重要な役割を果たします。ぜひ本講座を新しい薄膜の技術応用への足がかりとしてください。

 

講演内容

T.薄膜形成のメカニズム

 1.薄膜とは何か?〜定義、性質、機能〜

 2.薄膜の成長過程

  2-1 吸着、蒸発、拡散、核成長

  2-2 薄膜形成の駆動力としての粒子と基板のエネルギー

  2-3 薄膜の成長モードと、エピタキシー、積層効果

 3.薄膜プロセスの物理化学的現象

  3-1 薄膜材料の分解、輸送、成膜、安定化

  3-2 プロセスに関与する気体運動、吸着・脱離、反応

 

U.薄膜形成技術

 1.真空蒸着法の原理

  1-1 真空蒸着法(抵抗加熱、電子ビーム、PLD、AIP、MBE)

  1-2 真空蒸着の機構と膜厚制御

 2.スパッタリング法の原理

  2-1 グロー放電プラズマの基礎

  2-2 スパッタリング法(DC、マグネトロン、反応性、パルス)

  2-3 スパッタリング膜の機構と膜厚制御

 3.化学的気相成長(CVD)法の原理

  3-1 CVD法(熱、プラズマ、光)

   ・原子層堆積(ALD)

  3-2 CVDの反応と成長速度

 4.液相プロセスの原理

  4-1 めっき法(電解めっき、無電解めっき)

  4-2 電気めっきの膜厚・外観制御

  4-3 塗布法(印刷、スピンコート、ゾルゲル、液相エピタキシー)

 5.薄膜の関連技術

  5-1 前処理技術(洗浄、研磨、プラズマ、イオン)

  5-2 後処理技術(アニール、レーザー、リソグラフィ)

 6.薄膜形成技術の比較

  6-1 膜構造・膜厚分布の違い

  6-2 密着性・特性発現の違い

  6-3 コスト・生産性の違い

 

V.プラスチックへの薄膜形成

 1.プラスチック上薄膜の設計

  1-1 薄膜の設計フロー

  1-2 薄膜の試作・評価

  1-3 薄膜の解析

 2.プラスチック上薄膜形成の課題

 3.薄膜プロセスのモニタリング

 

W.プラスチック表面機能化の最新状況

 1.加飾・装飾

  ・加飾技術としての薄膜

  ・金属薄膜による加飾フィルム

  ・薄膜による光学干渉、カラーリング技術

  ・ナノ構造による機能加飾フィルム

 2.機械的機能

  ・薄膜による機械的物性と評価

  ・薄膜によるプラスチック耐摩耗性・潤滑性付与

  ・バイオミメティック薄膜による超撥水・超親水

 3.電磁波制御機能

  ・薄膜の光学的性質と光学測定

  ・反射防止フィルムから無反射フィルムへ

  ・赤外線、熱制御フィルム

  ・反射膜・光吸収膜、エレクトロクロミック薄膜

  ・フィルムによる電磁波シールド

 4.エレクトロニクス要素技術

  ・導電性、誘電率、分極のメカニズムと測定

  ・誘電体、強誘電体の薄膜応用

  ・次世代表示デバイスの透明導電膜と有機薄膜

  ・フィルム型薄膜太陽電池

  ・プリンテッドエレクトロニクスにおける薄膜

 5.ガスバリア機能

  ・ガスバリアのメカニズムとバリア測定

  ・超ハイバリアフィルムのデバイス応用

  ・ガラス代替樹脂を実現する保護薄膜

 

X.薄膜による将来技術の可能性

 1.IoTにおける薄膜の活用

 2.航空機・次世代自動車における薄膜の活用

 3.新しい発想の薄膜デバイス

 4.その他

 

講師プロフィール

技術士事務所ソメイテック 所長 大薗 剣吾 氏

2005年 東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻修了
2005年 凸版印刷鞄社
 ・ディスプレイ用金型生産技術
 ・液晶用シート製品開発・生産技術
2009年 同社 エレクトロニクス関連事業
 ・G10カラーフィルター ITO開発 2011年
 ・LSI用フォトマスク先端プロセス開発
 ・Cr遮光膜スパッタリング工程生産性向上
 ・ガラスCuスパッタリング基礎開発
 ・フィルムCuスパッタリング製品開発
2014年 同社 高機能フィルム事業 新製品開発PJ
2016年 同社 退職、技術士事務所ソメイテック設立
 ・化学品の開発(複数)
 ・製造業の薄膜技術支援(複数)
 ・公的ものづくり支援事業 技術専門家(複数)
 ・加飾技術研究会 理事
2018年 アイアール技術者教育研究所設立・所長
 ・技術者教育事業を事業化

電子デバイス・半導体・機能フィルム技術に携わり、蒸着、スパッタ、めっき、エッチング、フォト/電子線リソグラフィ、コンバーティング、表面分析など表面に関する広範の技術を経験。
薄膜装置はバッチ式試作機からインライン大型量産において、製品設計、工程設計、装置導入、品質管理の幅広い経験を有する。薄膜特性の面内分布改善、密着性の改善、微小欠陥改善、装置稼働率向上、メンテナンス改善、コスト低減の知見を有する。
日本技術士会・表面技術協会(会員)、加飾技術研究会(理事)所属。 技術士(金属部門)、一級機械保全技能士、応用情報技術者。

 

 

■スケジュール

受付開始 9:20〜

講演時間 10:00〜16:30

※昼休み12:00〜13:00

■受講料(テキスト付き)

●「コンバーテック」定期購読者
  関西コンバーティングものづくり研究会会員
  ウェブハンドリング技術研究会会員

  1名様 30,000円(税別)

●一般 1名様 35,000円(税別)

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