）uay（tisnetn..I..I）uay（tisnetn0－10－8－6－4－202468100－10－8－6－4－2024681055図8 ガラスタイプDMLAの作製プロセスと断面構成表2 ガラスDMLAの光学特性（上：等方拡散、下：矩形拡散、コリメートレーザー@405 nm）FWHM angle：5 degFWHM angle：6 degAngle（deg）Angle（deg）図9 ガラスDMLAの拡散特性Glass SubstratePhotoresistcoatingUV exposurePhotomaskDevelopingRIEEvaluationPropertyDiffusion angle （FWHM）AccuracyTransmittanceSize（max）SubstrateQuartz glass, Borosilicate glass1.21.00.80.60.40.21.21.00.80.60.40.2Circular type2〜9 degree＜±0.7 degree＞96％100 mm×100 mmAR coatingGlassAR coatingRectangular type3〜9 degree＜±0.7 degree＞96％50 mm×50 mmQuartz glass, Borosilicate glassラス基板上に塗布したポジ型フォトレジストに、露光と現像によって3次元のMLAパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして反応性イオンエッチングを行うことで、ガラス表面にレジストパターンと同じ形状のMLAが形成される。さらに透過率を高めるために広帯域の反射防止（ARコート）を形成することも可能である。このようにして作製した等方タイプのトップハット拡散特性を図9に示す。半値全幅（FWHM）角度5度、透過率は98％が得られている。非周期性の付加による最適設計を行っているために顕著な回折輝点や色ムラは生じていない。矩形状の異方タイプについてもMLAパターンの設計変更が必要になるが、同じプロセスでの作製が可能となっている。このようにして作製される当社のガラスDMLA（製品名：無機拡散板）の主な光学特性を表2に示す。様々なレーザープロジェクタにおいて、MLA構成で得られるトップハット拡散特性による効率の向上が確認されている。4.2 フィルムDMLA、UVインプリント フィルムDMLAは小型で高効率な動作を求められる最先端のTFT/LCD-HUDで使用されている。図10にUV転写による作製フローを示す。本稿では、転写原盤としてはロール転写ではなく前記ガラスDMLAを用いている。プロセスは、UV硬化樹脂を塗布したPET基材に、表面を離型処理された前記ガラス原盤を押圧し、UV光を照射することでMLAが転写される。原盤が凹レンズタイプの場合、転写品は凹レンズタイプになる。UV転写で使用するUV硬化樹脂については、屈折率や透過率等の光学特性はもちろんのこと、耐熱性をはじめとする車載で要求される信頼性や機械強度を確保し、使用する基材や転写方法によっても異なる密着性や粘度に対する条件などを満たすよう
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