2022 07 05 ulvac アルバック・ファイは、X線光電子分光分析装置(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy またはESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)のフラッグシップモデルとなる多機能走査型X線光電子分光分析装置において、自動化と簡易操作を追求した「PHI GENESIS」の販売を開始した。(写真:
走査型X線光電子分光分析装置「PHI GENESIS」外観)

【背景】
 全固体電池、最先端半導体、人工光合成などの先端材料は複雑に素材を組み合わせており、その研究開発では、素材の性能とともに素材の接合の最適化についてもスピードが求められている。このような研究開発を飛躍的に加速する、高性能かつ高機能な表面・界面分析へのニーズが高まっている。同社は、基本性能が極めて高いだけでなく、高度な自動化で顧客のさまざまな個別の要求に応える新しい表面分析装置の提供を始めた。それが、アルバック・ファイ社の新製品「PHI GENESIS」走査型X 線光電子分光分析装置(XPS:X-ray photoelectron Spectroscopy)。

【概要】
 「PHI GENESIS」XPS は、コンパクトな筐体に圧倒的な基本性能を内在させ、50 年の伝統を持つPHI XPSシリーズの”中核遺伝子”である高度な自動化と分析時間の短縮をさらに進化させた上に、拡張性をも併せ持つ新製品。「PHI GENESIS」XPS は自動試料交換による多試料自動分析、計数率を向上させた高感度アナライザーにより、高速・高感度・微小XPS分析を提供する。これまでにアルバック・ファイ社とフィジカル・エレクトロニクスUSA 社は世界初のXPS 分析技術として様々な技術(走査型マイクロX線、全自動ロボティクスXPS分析、絶縁物自動中和分析、クラスターイオンエッチング銃による有機物の深さ方向分析、高エネルギー光電子分光による無機物深さ方向分析)を実用化してきた。これらの技術全てが本装置一つに組み込まれており、金属、半導体、セラミックス、有機物などのあらゆる素材の最先端XPS 分析技術を1 台で提供することを可能とした。
 PHI GENESIS のもう一つの新機軸は、表面分析初心者から最先端の科学者まで、製造現場から最先端の開発・研究まで、あらゆるレベルのユーザーが使えるように設計され、使いやすさを追求した新しいソフトウェアをパッケージ化したこと。また、これまで大型シンクロトロンのような高度な分析機器を必要とした高度な分析を一般的な実験室環境下で実施できるオプションも準備した。
 PHI GENESIS は、現在の最先端の複合固体材料・複合固体デバイスの分析に完全に対応することにより、研究開発のスピードアップに欠かせない分析装置として世界市場の席巻を目指す。

【出荷開始】
 2023年4月より