【高純度フッ化水素ガス】レゾナック、徳山事業所で2026年内の製造開始予定、半導体需要拡大に対応

　レゾナックは、徳山事業所（山口県周南市）において、半導体回路のエッチング工程に使用される「高純度フッ化水素ガス（HFガス）」の製造を2026年内に新たに開始し、川崎事業所と合わせた国内2拠点体制にする予定。高純度フッ化水素ガスは、近年注目されている、半導体の微細な回路を高精度に加工する「クライオエッチング」をはじめとする先端技術において需要が高まっており、レゾナックは安定供給体制の強化を図る。
　高純度ガスは、半導体ウエハーの回路形成（前工程）で使われる材料であり、近年の半導体市場の拡大に伴い需要が増加している。特にデータセンターやAI用途の拡大を背景に、半導体チップを3次元的に高密度に積層する構造の採用が進んでおり、積層された多数の層を貫く微細で深い回路を高精度に形成する技術が求められている。
　こうしたニーズに対応する技術として注目されているのがクライオエッチング。クライオエッチングは、ウエハーを極低温に冷却した状態でエッチングを行うことで側壁を保護しながら加工でき、従来よりも深く滑らかな微細構造を高精度に形成できる技術。
　高純度フッ化水素ガスは、この先端エッチングプロセスにおいて酸化膜の除去などに使用される重要な材料であり、クライオエッチング技術の普及に伴い、より高い純度と安定した供給が求められている。同製品は、こうした先端プロセスの要求に対応し、微細で深い回路構造の形成を支える材料として、今後需要の拡大が見込まれている。