【半導体】リンテック、伊奈テクノロジーセンターに新棟建設。関連装置の需要拡大に対応し、開発力・生産能力増強

伊奈テクノロジーセンター「開発棟」の外観

 リンテックは、各種装置の開発・製造拠点である伊奈テクノロジーセンターにおいて約25億円を投じ、新棟を建設した。需要の拡大が続く半導体関連装置を中心とした新装置の開発力向上と生産能力のさらなる増強を目的に、2026年10月から稼働を開始する。
 伊奈テクノロジーセンターは、半導体ウェハの裏面研削(薄化)工程、切断工程などで使われる特殊粘着テープの貼付・剥離装置や、商品パッケージに自動でラベルを貼付するラベリングマシンなど、各種装置の開発・製造拠点。昨今の半導体の旺盛な需要を受けて半導体関連装置は現状の生産能力の上限に近い状況が続いており、また激しい市場変動を受けて短納期での受注が求められている。
 こうした状況を踏まえて、このたび同センターに4階建ての新棟「開発棟」を建設し、各装置の設計、製造および評価・検証を行うスペースをそれぞれ増床した。開発棟は2026年9月14日に竣工し、10月から稼働を開始する。

半導体関連装置の製造エリアは床面積比で1.6倍に増床
 開発棟には、これまで既存棟で行っていた装置の設計や顧客要求仕様に応じた評価・検証などのスペースを移管し、開発エリアとして活用。開発エリアは床面積比で従来の約1.5 倍となり、半導体の製造技術の進展に伴う新装置の開発力向上を目指す。また、これに伴い既存棟の同スペースについては全て製造エリアに充当することで、各エリアが大幅に増床となる。特に装置の組み立て・調整・検査などを手掛ける製造エリアについては床面積比で約1.6倍となり、高まるニーズに応えられる体制を構築する。
 開発棟には省エネを考慮して太陽光パネルを設置したほか、バリアフリーにも配慮した設計となっている。
■伊奈テクノロジーセンターの概要
 所在地:埼玉県北足立郡伊奈町
 開設:1983年7月
 従業員数:308人 (2026年9月1日現在。派遣社員や関係会社社員などを含む)
■伊奈テクノロジーセンター 開発棟の概要
 建築面積:約1,000m2
 延床面積:約3,600m2
 フロア構成:地上4階建
 ・1階、2階 開発エリア(顧客要求仕様に応じた装置評価・検証)
 ・3階 設計エリア
 ・4階 設計エリア、会議室など
 総工費:約25億円
 竣工:2026年9月14日

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